Drogaggio sacca (well) MOSFET
Buonasera. Vi chiedo per favore di aiutarmi a capire il mio dubbio sulla consegna dell'esercizio. Secondo me è poco chiaro:
Si deve realizzare un MOSFET a canale n a partire da uno strato epitassiale n-Si con livello di drogaggio
in cui viene realizzata una sacca (well) di tipo p impiantando drogante in modo che la concentrazione (in prima approssimazione uniforme in prossimità della superficie) sia
.
Come lo capisco io quel
è il risultato finale dopo il drogaggio. (cioè la concentrazione di accettori dopo la ricombinazione) . Invece guardando lo schema del prof. vedo che lui mette ancora
e infatti dopo per il calcolo delle funzioni di lavoro toglie
.
Di solito si deve sembre interpretare così come ha fatto il prof? Secondo me non era chiarissimo.
Si deve realizzare un MOSFET a canale n a partire da uno strato epitassiale n-Si con livello di drogaggio
in cui viene realizzata una sacca (well) di tipo p impiantando drogante in modo che la concentrazione (in prima approssimazione uniforme in prossimità della superficie) sia
. Come lo capisco io quel
è il risultato finale dopo il drogaggio. (cioè la concentrazione di accettori dopo la ricombinazione) . Invece guardando lo schema del prof. vedo che lui mette ancora
e infatti dopo per il calcolo delle funzioni di lavoro toglie
. Di solito si deve sembre interpretare così come ha fatto il prof? Secondo me non era chiarissimo.