Constant-field Scaling
Buongiorno,
Qualcuno potrebbe aiutarmi a comprendere il principio dietro l'idea del constant-field scaling?
Sul famoso libro di Y. Taur, Fundamentals of Modern VLSI Devices, viene spiegato che storicamente l'aumento di densità di integrazione si è ottenuta scalando, in un transistore, tutti i parametri geometrici e la
di una costante k al fine di mantenere costante il campo elettrico per questioni di reliability.
Capisco i vantaggi in termini di area, potenza dinamica e ritardi, ma non mi è chiaro il significato dietro reliability in questo caso: cosa giustificava, esattamente, di imporsi una scaling rule così "rigida"?
Spero che la sezione sia giusta.
Vi ringrazio per il tempo.
Qualcuno potrebbe aiutarmi a comprendere il principio dietro l'idea del constant-field scaling?
Sul famoso libro di Y. Taur, Fundamentals of Modern VLSI Devices, viene spiegato che storicamente l'aumento di densità di integrazione si è ottenuta scalando, in un transistore, tutti i parametri geometrici e la
di una costante k al fine di mantenere costante il campo elettrico per questioni di reliability. Capisco i vantaggi in termini di area, potenza dinamica e ritardi, ma non mi è chiaro il significato dietro reliability in questo caso: cosa giustificava, esattamente, di imporsi una scaling rule così "rigida"?
Spero che la sezione sia giusta.
Vi ringrazio per il tempo.